第一章 总则
第一条 为了保护集成电路布图设计专有权,鼓励集成电路技术的创新,促进科学技术的发展,制定本条例。
第二条 本条例下列用语的含义：
（一）集成电路,是指半导体集成电路,即以半导体材料为基片,将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上,以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品；
（二）集成电路布图设计（以下简称布图设计）,是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置,或者为制造集成电路而准备的上述三维配置；
（三）布图设计权利人,是指依照本条例的规定,对布图设计享有专有权的自然人、法人或者其他组织；
（四）复制,是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为；
（五）商业利用,是指为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为。
第三条 中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。
外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的,依照本条例享有布图设计专有权。
外国人创作的布图设计,其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的,依照本条例享有布图设计专有权。
第四条 受保护的布图设计应当具有独创性,即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果,并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。
受保护的由常规设计组成的布图设计,其组合作为整体应当符合前款规定的条件。
第五条 本条例对布图设计的保护,不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等。
第六条 国务院知识产权行政部门依照本条例的规定,负责布图设计专有权的有关管理工作。
第二章 布图设计专有权
第七条 布图设计权利人享有下列专有权：
（一）对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制；
（二）将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用。
第八条 布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生。
未经登记的布图设计不受本条例保护。
第九条 布图设计专有权属于布图设计创作者,本条例另有规定的除外。
由法人或者其他组织主持,依据法人或者其他组织的意志而创作,并由法人或者其他组织承担责任的布图设计,该法人或者其他组织是创作者。
由自然人创作的布图设计,该自然人是创作者。
第十条 两个以上自然人、法人或者其他组织合作创作的布图设计,其专有权的归属由合作者约定；未作约定或者约定不明的,其专有权由合作者共同享有。
第十一条 受委托创作的布图设计,其专有权的归属由委托人和受托人双方约定；未作约定或者约定不明的,其专有权由受托人享有。
第十二条 布图设计专有权的保护期为10年,自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算,以较前日期为准。但是,无论是否登记或者投入商业利用,布图设计自创作完成之日起15年后,不再受本条例保护。
第十三条 布图设计专有权属于自然人的,该自然人死亡后,其专有权在本条例规定的保护期内依照继承法的规定转移。
布图设计专有权属于法人或者其他组织的,法人或者其他组织变更、终止后,其专有权在本条例规定的保护期内由承继其权利、义务的法人或者其他组织享有；没有承继其权利、义务的法人或者其他组织的,该布图设计进入公有领域。
